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米研究機関が中国への半導体製造装置輸出に警告

出典: 中国への高度な半導体製造装置の輸出を認めるとAI分野での優位性が失われると研究機関が警告

米国のテクノロジー&ステートクラフトセンターが、AIチップ製造に不可欠な高度な半導体露光装置の中国への輸出を認めた場合、今後5~10年でアメリカのAI分野における優位性が失われるとする報告書を公開した。すでに一部の高度な露光装置が「抜け穴」を使って輸出されている実態も指摘し、対策を提言している。米中の技術覇権競争が激化する中、半導体製造装置の輸出管理が重要な戦略課題となっている。

本記事は外部記事の要約です。原典は次のリンクを参照してください。

https://gigazine.net/news/20261006-duv-immersion-lithography-china/